Ban đầu, VIA chưa đưa ra Nano lõi kép vì kích thước  chip  tăng lêncho lõi thứ hai  sẽ  làm rò rỉ nhiều hơn, hạ thấp hiệu quả tiêu thụ nănglượng. Nhưng thêm phiên bản  lõi kép vào dòng Nano có thể mở ra nhữngthị trường mới cho chip.

Việc chuyển sang  sản xuất bằng quy trình  45nm sẽ tăng hiệu năng,giảm năng lượng tiêu thụ của chip. Giống như cái tên của mình, chipNano nhỏ hơn do mật  độ transistor cao, có giá thành hạ do từ một tấmnền silicon wafer có thể tạo ra nhiều chip  hơn. Việc tung ra phiên bảnBXL Nano lõi kép được sản xuất bằng quy trình  45nm sẽ giúp VIA cạnhtranh tốt hơn với Intel. Moorestown, phiên bản  tiếp theo của BXL IntelAtom sẽ “trình làng” trong năm 2009.

Bạn có ý kiến gì về bài viết VIA: Năm 2009 sẽ có BXL Nano lõi kép 45nm này? Hãy gởi suy nghĩ, bình luận, đánh giá, lời khuyên ... của bạn về bài viết VIA: Năm 2009 sẽ có BXL Nano lõi kép 45nm bạn tại đây.